[发明专利]一种MEMS微型高灵敏度磁场传感器及制作方法有效
申请号: | 200610030766.X | 申请日: | 2006-09-01 |
公开(公告)号: | CN1912646A | 公开(公告)日: | 2007-02-14 |
发明(设计)人: | 吴亚明;刘玉菲;李四华;万助军 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | G01R33/02 | 分类号: | G01R33/02;G01R33/032;G03F7/00 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 潘振甦 |
地址: | 200050*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种MEMS微型高灵敏度磁场传感器及制作方法,其特征在于所述的磁场传感器是由双端固置式MEMS扭转微镜、磁性敏感薄膜和双光纤准直器构成;金属反馈电极和磁性敏感薄膜之间形成器件扭转间隙;通过调节架,利用光学封装树脂,完成与双光纤准直器的封接。其制作方法特征是利用MEMS技术制作微磁敏感结构与光纤检测技术结合,包括传感器基底及反馈电极制作、传感器磁场薄膜的制作、器件键合、整体减薄及反射镜面的制作以及器件扭转结构释放四大步骤,所提供的磁场传感器最小可敏感到60nT的微弱磁场,灵敏度达0.6dB/μT。有利于批量生产和器件成本的降低。 | ||
搜索关键词: | 一种 mems 微型 灵敏度 磁场 传感器 制作方法 | ||
【主权项】:
1、一种MEMS微型高灵敏度磁场传感器,其特征在于所述的磁场传感器是由双端固置式MEMS扭转微镜、磁性敏感薄膜和双光纤准直器构成;金属反馈电极和磁性敏感薄膜之间形成器件扭转间隙;通过调节架,利用光学封装树脂,完成与双光纤准直器的封接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610030766.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:热压机
- 下一篇:散热型球格阵列封装结构