[发明专利]Cu-W薄膜涂层集成复合热沉无效

专利信息
申请号: 200610031439.6 申请日: 2006-03-31
公开(公告)号: CN1845317A 公开(公告)日: 2006-10-11
发明(设计)人: 周灵平;彭坤;李德意;李绍禄;门海泉 申请(专利权)人: 湖南大学
主分类号: H01L23/36 分类号: H01L23/36;H01S5/024;H05K7/20
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 代理人: 马强
地址: 4100*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 一种Cu-W薄膜涂层集成复合热沉,包括无氧铜基体1,其上沉积有一层Cu-W合金薄膜2。所述Cu-W合金薄膜2的厚度为8μm-15μm,薄膜成份为Cu含量8.1%wt~17.5%wt,其余为W。本发明产品具有热膨胀与半导体芯片匹配、热导率高等优良特性,可以避免无氧铜产生热膨胀时直接拉伤半导体芯片,同时防止半导体激光器工作时因热量积聚烧坏芯片,能满足大功率半导体激光器封装的需要,大大提高了半导体激光器寿命。
搜索关键词: cu 薄膜 涂层 集成 复合
【主权项】:
1、一种Cu-W薄膜涂层集成复合热沉,包括无氧铜基体1,其技术特征是,在该无氧铜基体1上沉积一层Cu-W合金薄膜2。
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