[发明专利]一种在炻瓷制品上产生岩石纹路图案的方法无效

专利信息
申请号: 200610031837.8 申请日: 2006-06-16
公开(公告)号: CN1865028A 公开(公告)日: 2006-11-22
发明(设计)人: 潘俊明;徐娅 申请(专利权)人: 湖南泰鑫瓷业有限公司
主分类号: B44C1/20 分类号: B44C1/20;B44F9/04
代理公司: 株洲市长江专利事务所 代理人: 肖美哲
地址: 412200湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明涉及一种在炻瓷制品上产生岩石纹路图案的方法,主要用于普通无光釉产品上的装饰。调兑好阻水剂浓度,阻水剂与水的比例在1∶1到1∶3之间都合适。对洗好水的陶瓷制品干坯上无光白釉,即将底釉釉料沾于干坯的表面上,用笔蘸阻水剂画圆圈,所述的底釉是普通无光釉。等半个小时阻水剂干完全阻水后,再用深色无光釉喷,送至窑炉中烧制。能产生岩石般别开生面的视觉效果。扩展了阻水剂的用法。
搜索关键词: 一种 制品 产生 岩石 纹路 图案 方法
【主权项】:
1、一种在炻瓷制品上产生岩石纹路图案的方法,其特征在于:它在炻瓷底釉上刷阻水剂阻水,然后把深色无光釉喷撒上去,而结成釉珠,窑炉中烧制从而形成岩石纹路;具体步骤如下A、采用水兑好阻水剂浓度,其阻水剂∶水=1∶1~3,其阻水剂是由乳白阻水剂和透明阻水剂1∶1的比例兑成;B、将洗好水的炻瓷制品干坯上普通无光白釉作为底釉,即将底釉釉料沾于干坯的表面上,所述的底釉厚度为0.3~0.4mm,用笔蘸阻水剂在干坯底釉釉面上画圆圈,圆圈之间有一定间距,C、经过20~40分钟后阻水剂完全阻水后,将深色无光釉喷在画圆圈的干坯底釉釉面上而结成釉珠,其喷洒的厚度为0.1~0.2mm,送至窑炉中烧制而形成岩石纹路图案。
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