[发明专利]多孔硅的制备方法无效

专利信息
申请号: 200610031944.0 申请日: 2006-07-10
公开(公告)号: CN1884069A 公开(公告)日: 2006-12-27
发明(设计)人: 唐元洪;林良武;朱利兵 申请(专利权)人: 湖南大学
主分类号: C01B33/021 分类号: C01B33/021;C01B33/027
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 代理人: 马强
地址: 410082*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 一种多孔硅的制备方法,以去离子水为溶剂,加入不大于溶剂重量1%的一氧化硅粉末,混合后置入密封反应釜中,搅拌,并将剪裁好的硅片悬挂在该密封反应釜中,于200℃-500℃温度、3-40MPa压力下保温1-5小时,即由所悬挂的硅片制得多孔硅。所述搅拌可采用磁力搅拌器。所制备的多孔硅具有表面平整、孔分布均匀、串空率低、在空气环境中的发光稳定、强度高、制备过程操作简单、成本低等优点;最大的特点是无任何酸性物质的参与,有利于环保。
搜索关键词: 多孔 制备 方法
【主权项】:
1、一种多孔硅的制备方法,其特征在于,以去离子水为溶剂,加入一氧化硅粉末且所加的量不大于溶剂重量的1%,混合后置入密封反应釜中,搅拌,并将剪裁好的硅片悬挂在该密封反应釜中,于200℃-500℃温度、3-40MPa压力下保温1-5小时,即由所悬挂的硅片制得多孔硅。
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