[发明专利]一种步进扫描光刻机隔振系统模拟试验装置

摘要

本发明公开了一种步进扫描光刻机隔振系统模拟试验装置，把整个试验装置分成内部世界和外部世界两大部分，外部世界主要完成模拟光刻机的精密步进扫描运动，使工件台和掩模台按预定的速度、加速度曲线运动，完全再现真正光刻机的步进扫描运动；内部世界主要是安装光学系统、工件台以及掩模台，为完成最后的光刻服务。内部世界和外部世界通过可以实现6自由度的高精度主动减振器来连接，把外部世界所产生的振动传到内部世界去的部分尽量降低，以保证内部世界的安静。本发明是一种能把工作核心部分一安装光源系统的工作平台的振动控制在设计容许的范围之内，提高硅片的光刻精度，同时也可以进行精密定位、同步控制等的步进扫描光刻机隔振系统模拟试验装置。

主权项

一种步进扫描光刻机隔振系统模拟试验装置，其特征是：在基座(1)上固定安装有左下立柱(2)、右下立柱(25)，XA定位平台(4)和XB定位平台(24)分别安装在左下立柱(2)和右下立柱(25)上表面的一端，在所述的左下立柱(2)和右下立柱(25)上表面另外一端分别安装有左上立柱(8)和右上立柱(20)，直线电机安装座(11)两端分别固定在所述的左上立柱(8)和右上立柱(20)的上表面，多个减振器(3)安装在基座(1)的上表面，工作平台(19)直接所述的多个减振器(3)的上表面，左前掩模台立柱(7)、左后掩模台立柱(7)、右前掩模台立柱(21)、右后掩模台立柱固定安装在所述的工作平台(19)上，左掩模台垫座(12)和右掩模台垫座(18)分别安装在所述的左前掩模台立柱(7)、左后掩模台立柱(7)、右前掩模台立柱(21)、右后掩模台立柱上表面，掩模台垫(17)固定在所述的左掩模台垫座(12)和右掩模台垫座(18)的中间；Y2定位平台(13)固定在所述的直线电机安装座(11)的上表面，掩模台连接臂(26)固定在Y2定位平台(13)的动子上面，掩模台(14)安装在第一气浮轴承(15)，所述的第一气浮轴承(15)通过第一真空气垫(16)安装在所述的掩模台垫(17)上，所述的第一气浮轴承(15)固定安装在掩模台连接臂(26)上；左转接板(5)和右转接板(23)分别安装在所述的XA定位平台(4)和XB定位平台(24)的动子上面，连接板(22)安装在所述的左转接板(5)和右转接板(24)的上表面，Y1定位平台(6)安装在连接板(22)的上表面，工件台连接臂(28)固定在Y1定位平台(6)的动子上面，工件台(10)安装在第二气浮轴承(9)上，所述的第二气浮轴承(9)通过第二真空气垫(24)安装在所述的工作平台(19)上，第二气浮轴承(9)固定连接在所述的工件台连接臂(28)上。