[发明专利]梭式窑可控制还原气氛烧制陶瓷方法无效
| 申请号： | 200610034770.3 | 申请日： | 2006-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN1834063A | 公开（公告）日： | 2006-09-20 |
| 发明（设计）人： | 张海文;曾令可;罗民华;王慧;刘平安;方海鑫;程小苏;税安泽 | 申请（专利权）人： | 华南理工大学 |
| 主分类号： | C04B35/64 | 分类号： | C04B35/64 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李卫东;罗观祥 |
| 地址： | 510640广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供梭式窑可控制还原气氛烧成陶瓷方法，步骤包括升温、干燥、烧成、保温、冷却、出窑，在梭式窑温度为500～1400℃，保温30～60分钟时，将盛有水敞口容器置于梭式窑下方的吸火口处，敞口容器的面积不小于吸火口的垂直投影面积。本方法可以很好的避免烧制陶瓷时的高温氧化问题，大大提高青瓷产品的质量，节约燃料、减少污染；并且具有成本低，易操作等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 梭式窑可 控制 还原 气氛 烧制 陶瓷 方法 | ||
【主权项】：
1、梭式窑可控制还原气氛烧成陶瓷方法，步骤包括升温、干燥、烧成、保温、冷却、出窑，其特征在于：在梭式窑温度为500～1400℃，保温30～60分钟时，将盛有1～2升水的敞口容器置于梭式窑下方的吸火口处，敞口容器的面积不小于吸火口的垂直投影面积。
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