[发明专利]透明导电膜层抛光装置及其抛光方法有效

专利信息
申请号: 200610034900.3 申请日: 2006-04-03
公开(公告)号: CN1830622A 公开(公告)日: 2006-09-13
发明(设计)人: 金弼 申请(专利权)人: 深圳南玻显示器件科技有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B7/24;B24B9/14;B24B13/015
代理公司: 深圳创友专利商标代理有限公司 代理人: 郭燕
地址: 518067广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种透明导电膜层抛光装置,包括基板固定盘、与基板固定盘相对应的抛光布固定件、抛光布和驱动机构,抛光布固定在抛光布固定件上,驱动机构用于使抛光布摩擦基板上的透明导电膜层,所采用的抛光布材质足够柔软,以使在工作压力下抛光布的和基板接触部分的弹性形变量大于0.1毫米,远远大于基板表面凹凸高度的差值。利用本发明对ITO膜层进行软抛光,不仅保证了ITO膜层在10微米*10微米范围内原子力显微镜AFM测得的粗糙度Ra、Rp-v有显著降低,而且保证ITO膜层的电阻均匀性在抛光前后差异很小,保证量产的均匀性和重复性,且简单易行。
搜索关键词: 透明 导电 抛光 装置 及其 方法
【主权项】:
1.一种透明导电膜层抛光装置,用于对附着在基板上的透明导电膜进行抛光,包括用于固定基板的基板固定盘、与基板固定盘相对应的抛光布固定件、抛光布和驱动机构,所述抛光布固定在抛光布固定件上,所述驱动机构用于使抛光布摩擦基板上的透明导电膜层,其特征在于:所述抛光布材质足够柔软,以使在工作压力下所述抛光布和基板接触部分的弹性形变量大于0.1毫米。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳南玻显示器件科技有限公司,未经深圳南玻显示器件科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610034900.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code