[发明专利]侧面倏逝波透射光纤的制造方法

摘要

本发明公开了一种侧面倏逝波透射光纤的制造方法，其制造步骤为：(1)将高纯度的石英反应管用C₂F₆进行抛光；(2)设计波导结构，依次沉积第四包层、第三包层、下凹包层、芯层和保护层；(3)塌缩成棒在1900℃以上的高温下进行拉丝，拉丝张力控制在30－50g，外径控制在125±1μm，透射倏逝波的深度在1.5μm，波长大于21μm。为防止预制棒在拉伸过程中发生断纤，在工艺上采用弹性导轨代替轮式导轨进行牵行，防止光纤在变径截面上断裂，并采用低拉丝张力和低折射率的内涂层。采用本发明方法制造的透射光纤具有成品率高，有稳定的光学参数和较好的机械强度，并适合大批量生产。

主权项

1、一种侧面倏逝波透射光纤的制造方法：其制造步骤如下：(1)将高纯度99.999％石英材质的反应管架在沉积车床上，采用C2F6对石英反应管进行抛光，目的是去除表面污染物；(2)设计波导结构，编制沉积控制程序，在高温1150℃和微波作用下；或是在1800℃氢氧焰作用下，与分次计量通入反应管内的反应气体进行反应，得到确定掺杂结构的石英玻璃，即先沉积第四包层，相对折射率差控制在-0.005％＜Δ4＜-0.01％范围内，沉积截面积控制在108±1mm2，再是沉积第三包层，相对折射率差控制在0.05％＜Δ3＜0.1％范围内，截面积控制在12.6±0.5mm2，然后沉积下凹包层，相对折射率差控制在-0.2％＜Δ2＜-0.1％范围内，截面积控制在8.4±0.5mm2，后沉积芯层，截面积控制在38±0.5mm2，相对折射率差范围满足Δ1＜0.28％，最后沉积纯二氧化硅或掺C2F6的二氧化硅作为保护层，截面积控制在18±0.5mm2；(3)沉积完成后进行塌缩成棒，当中心孔直径小于2mm时采用C2F6腐蚀，将中心孔融合，得到实心的预制棒，最终得到一种外径为14.8mm-30.6mm的预制棒；(4)将实心预制棒采用小直径Φ＝0.8~1mm的金刚石磨针或厚度为0.8~1mm的极薄切割砂轮在预制棒上进行加工，加工成1mm以下的等间距单侧条纹，条纹深度控制在6~13mm；(5)将上述(4)所得的预制棒，经过拉伸，拉伸工艺参数是：H2＝50sccm，O2＝41.7sccm，尾车速度＝8mm/min，正向拉棒速度＝12mm/min，单侧条纹参数是：条纹宽度＝0.8~1mm，深度＝6~13mm，条纹间隔＝5~50mm，棒径在11.0~15.0mm，预制棒在1900℃的高温下进行拉丝，拉丝张力控制在30~50g，外径控制在125±1μm，得到拉丝后的侧面抛磨区长度在14m~60m之间，侧面抛磨区间隔在70m~3000m之间，透射倏逝波的深度在1.55±0.05μm，波长大于21μm。