[发明专利]一种氧化锌薄膜的制备方法无效
申请号: | 200610042715.9 | 申请日: | 2006-04-24 |
公开(公告)号: | CN1843934A | 公开(公告)日: | 2006-10-11 |
发明(设计)人: | 王秀峰;方俊 | 申请(专利权)人: | 陕西科技大学 |
主分类号: | C01G9/02 | 分类号: | C01G9/02 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 | 代理人: | 张震国 |
地址: | 712081*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明涉及一种氧化锌薄膜的制备方法,属于半导体光电与器件领域,首先将锌盐、乙二胺溶于去离子水中,并用氢氧化钠溶液调节pH值至10.50~12.00,制备成薄膜生长反应液,然后将处理过的基片平置于陶瓷加热板上,浸入到制备好的薄膜生长反应液中,控制加热温度100~150℃,反应20~40分钟后即可获得致密的氧化锌薄膜。本发明方法操作简单、成本低,生产周期短。 | ||
搜索关键词: | 一种 氧化锌 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于:1)薄膜生长反应液的制备首先将锌盐和乙二胺溶于去离子水中,然后用氢氧化钠调节溶液的pH值为10.50~12.00,使100ml水溶液中含0.005mol的锌盐、0.0125mol的乙二胺,2)基片的预处理将基片在超声波作用下依次用甲苯,丙酮,无水乙醇清洗,再用蒸馏水冲洗干净后,将基片置于浓度为20%的HF中腐蚀1~3分钟,再用蒸馏水冲洗干净后在空气中晾干;3)氧化锌薄膜的制备将预处理后的基片平置于陶瓷加热板上,浸入到薄膜生长反应液中,控制加热温度为100~150℃,反应20~40分钟,反应结束后将基片置于去离子水中超声1~2分钟,用去离子水冲洗后自然晾干,即可获得致密的氧化锌薄膜。
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