[发明专利]在三价铬镀液中电沉积装饰性铬镀层的方法无效

专利信息
申请号: 200610042897.X 申请日: 2006-05-26
公开(公告)号: CN101078131A 公开(公告)日: 2007-11-28
发明(设计)人: 张俊彦;曾志翔;梁爱民;王立平;胡丽天 申请(专利权)人: 中国科学院兰州化学物理研究所
主分类号: C25D3/06 分类号: C25D3/06
代理公司: 兰州中科华西专利代理有限公司 代理人: 方晓佳
地址: 730000甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明公开了一种在三价铬电镀液中制备装饰性铬镀层的方法。主要是针对取代目前污染严重的六价铬电镀工艺而发明的。本发明在含氯化铬的基础电解液中,通过选择适当的添加剂和控制工艺条件,制备出表面平整、无裂纹、与底材结合牢固、光亮性及耐腐蚀性能与六价铬电镀镀层接近的非晶态铬镀层。其优点在于工艺稳定、操作条件宽、能耗低,其分散能力、覆盖能力、电流效率高于六价铬电镀工艺。此工艺能够达到工业生产的要求。制备出的铬镀层的厚度为0.5~1μm。此发明能在装饰性镀铬方面取代严重污染环境且危害人体健康的传统六价铬电沉积工艺,制备的镀层可用于各种防腐及装饰领域。
搜索关键词: 三价铬镀液中电 沉积 装饰性 镀层 方法
【主权项】:
1、一种在三价铬镀液中电沉积装饰性铬镀层的方法,其特征在于选用氯化铬溶液体系,其溶液组成为:每升电解液中含有氯化铬95-125g,尿素80~120g,溴化铵40~50g,氯化钠20~35g,硼酸2~10g,甲醇180~220ml,甲酸、乙酸、乙二酸、氨基乙酸、甲酸盐、乙酸盐或乙二酸盐0.1~1mol;电沉积时阳极为高纯石墨,将工件按照常规的镀前预处理进行清洗和活化后,控制施镀温度在20~30℃,电解液pH值控制在1~3,阴极电流密度为5~20A/dm2,电沉积2~5分钟即可制备出厚度为0.5~1μm的光亮铬镀层。
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