[发明专利]AMPS类阴离子共聚物水分散体系的制备方法

摘要

一种AMPS类阴离子共聚物水分散体系的制备方法。是在pH1～4范围内多阶段水分散聚合。它以1～50mol％至少一种水溶性阴离子乙烯基单体和至少一种50～99mol％非离子乙烯基单体为原料；以疏水单体作辅助共聚单体，用量为单体总重量的0.1～5％；以水溶性阴离子聚合物作分散剂、离液序列高和离液序列低的盐作相分离剂、多元醇类化合物作有机辅助分散剂、气相二氧化硅作无机辅助分散剂、氧化剂－还原剂－有机偶氮盐为复合引发体系(分2～5次滴加)，用量分别为分散体系总重量的0.1～5％、5～40％、0.05～5％、0.05～10％和0.001～5％；余量为水。制备的分散体系中水溶性聚合物的重量百分比为5～40％，相对分子质量高、稳定性好。

主权项

1.一种AMPS类阴离子共聚物水分散体系的制备方法，其特征在于它是在pH值为1～4的范围内，按下述物料配比，采用多阶段水分散聚合方法聚合：a.以1～50mol％的至少一种水溶性阴离子乙烯基单体和至少一种50～99mol％的非离子乙烯基单体为原料；b.以疏水单体作辅助共聚单体，用量为上述单体总重量的0.1～5％；c.以水溶性阴离子聚合物作分散剂，用量为分散体系总重量的0.1～5％；d.以至少一种离液序列高的盐和至少一种离液序列低的盐作相分离剂，用量为分散体系总重量的5～40％；e.以多元醇类化合物作有机类辅助分散剂，用量为分散体系总重量的0.05～5％；f.以气相二氧化硅作无机类辅助分散剂，用量为分散体系总重量的0.05～10％；g.以氧化剂-还原剂-有机偶氮盐为复合引发体系，用量为单体总重量的0.001～5％，分2～5次滴加；h.余量为水；制备的分散体系中水溶性聚合物的重量百分比为5～40％。