[发明专利]岩体结构面试样的代表性评价方法

摘要

本发明涉及一种岩体结构面试样的代表性评价方法，包含以下顺序步骤：分别在所选取的岩体结构面试样和原位岩体结构面上标定试验方向，使岩体结构面试样和原位岩体结构面的粗糙度系数测量方向保持一致；根据标定方向，对岩体结构面试样进行定向统计测量，求得岩体结构面试样的粗糙度系数特征值JRC₀；在原位岩体结构面上，沿标定方向，按照岩体结构面试样的长度均匀布置不少于30条的测量线段，进行定向统计测量，求得试样尺寸的原位岩体结构面粗糙度系数特征值JRC₀^*；由K＝｜JRC₀－JRC₀^*｜/JRC₀^*评价结构面试样的代表性。K＝0～0.15，结构面试样代表性很好；K＝0.15～0.4，结构面试样代表性较好；K＝0.4～0.7，结构面试样代表性中等；K＝0.7～1，结构面试样代表性较差；K≥1，结构面试样代表性很差。

主权项

1、一种岩体结构面试样的代表性评价方法，其特征在于包含以下顺序步骤：(1)分别在所选取的岩体结构面试样和原位岩体结构面上分别标定试验方向，使岩体结构面试样和原位岩体结构面的粗糙度系数测量方向保持一致；(2)根据标定的方向，对岩体结构面试样进行粗糙度系数定向统计测量，求得岩体结构面试样的粗糙度系数特征值JRC0；(3)在原位岩体结构面上，沿标定的方向，按照岩体结构面试样的长度均匀地布置不少于30条的测量线段，进行粗糙度系数的定向统计测量，求得试样尺寸的原位岩体结构面粗糙度系数特征值JRC0*；(4)由$K=\frac{|\mathrm{JR}{C}_0-{{\mathrm{JRC}}_0}^{*}|}{{{\mathrm{JRC}}_0}^{*}}$ 评价结构面试样的代表性。K＝0～0.15，结构面试样代表性很好；K＝0.15～0.4，结构面试样代表性较好；K＝0.4～0.7，结构面试样代表性中等；K＝0.7～1，结构面试样代表性较差；K≥1，结构面试样代表性很差。