[发明专利]一种合成碳化硅纳米棒的方法无效
申请号: | 200610049667.6 | 申请日: | 2006-03-02 |
公开(公告)号: | CN1834308A | 公开(公告)日: | 2006-09-20 |
发明(设计)人: | 潘颐;吴仁兵;陈建军;杨光义 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | C30B1/00 | 分类号: | C30B1/00;C30B29/36;C30B29/62;C01B31/36 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人: | 林怀禹 |
地址: | 310027浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种合成碳化硅纳米棒的方法。碎硅片置于石墨坩锅里,将盛有碳纳米管的多孔氧化铝基片放置于坩锅上,随后倒置另一石墨坩锅于基片上;将坩锅放置真空高温烧结炉里,以10~30℃/min的升温速率一直升温到1400℃~1600℃,保温时间3~6个小时,硅蒸气与碳纳米管反应,整个装置在Ar的气氛下进行,反应结束后,关掉加热电源,冷却;最后有大量的灰白色的纳米SiC棒粉体产品附着在基片上。所得产品的质量很高,产品杂质少且产率很高,无层错等缺陷;无需使用金属催化剂,所以也避免了因催化剂的混入而导致产品不纯的缺陷;反应设备简单,操作成本低。 | ||
搜索关键词: | 一种 合成 碳化硅 纳米 方法 | ||
【主权项】:
1、一种合成碳化硅纳米棒的方法,其特征在于该方法的步骤如下:1)碎硅片作为起始的原材料,被置于石墨坩锅里,将盛有碳纳米管的多孔氧化铝基片放置于石墨坩锅上,碎硅片和多孔氧化铝基片之间不接触,随后倒置同样直径大小的另一石墨坩锅于多孔氧化铝基片上;2)然后整个石墨坩锅放置真空高温烧结炉里,以10~30℃/min的升温速率一直升温到1400℃~1600℃,保温时间3~6个小时,硅蒸气与碳纳米管反应,整个装置在Ar的气氛下进行,以避免任何的氧化行为发生。反应结束后,关掉加热电源,冷却水一直循环直至整个装置完全冷却;最后有大量的灰白色的产品附着在氧化铝基片上,经X射线衍射检测,所得产品是纳米SiC棒粉体。
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