[发明专利]一种FeS2/In2S3复合膜的制备方法无效
申请号: | 200610049832.8 | 申请日: | 2006-03-14 |
公开(公告)号: | CN101038944A | 公开(公告)日: | 2007-09-19 |
发明(设计)人: | 孟亮;刘艳辉 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 杭州中成专利事务所有限公司 | 代理人: | 冯子玲 |
地址: | 310027浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种FeS2/In2S3复合膜的制备方法。采用ITO膜导电玻璃基片,在摩尔浓度比为1∶(5~6)的水溶液中电沉积预制膜,经130~180℃氧化处理得到多孔形态的Fe3O4/In2O3复合先驱体膜,再在40~80kPa硫蒸气名义压力气氛中经400℃硫化处理10~30h,使复合先驱体膜转变成FeS2/In2S3复合膜。本发明在电沉积后引入氧化工艺,促进了热硫化中的FeS2反应,直接由基底膜硫化形成In2S3,省去了单独合成In2S3的工艺过程,FeS2/In2S3两相界面结合能够得到有效保证,复合膜与基片之间附着牢固可靠。 | ||
搜索关键词: | 一种 fes sub in 复合 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种FeS2/In2S3复合膜的制备方法,其特征在于下述步骤:(1)采用载膜基片为In2O3∶SnO2=9∶1的ITO膜导电玻璃,先后在丙酮和乙醇溶液中超声波清洗各20min后,再用去离子水冲洗;(2)用载膜基片做阴极,Pt片做阳极,在FeSO4和Na2S2O3水溶液中电沉积制取预制膜;(3)将预制膜在环境气氛中进行氧化处理,得到多孔形态的Fe3O4/In2O3复合先驱体膜;(4)将先驱体膜和纯度为99.5%的升华硫粉封装于石英管中,封装前通过反复5次充氩-抽真空过程置换残余气体,封装时抽真空至0.01Pa;(5)将封装后的先驱体膜在400℃等温炉中进行硫化处理,得到FeS2/In2S3复合膜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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