[发明专利]具基板清洁装置的光学制作工艺设备及其制作工艺方法有效
| 申请号： | 200610051494.1 | 申请日： | 2006-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN1814360A | 公开（公告）日： | 2006-08-09 |
| 发明（设计）人： | 李丰仲;李文杉 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/02 | 分类号： | B08B5/02;G03F7/16;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 魏晓刚;李晓舒 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种基板清洁装置、包括此基板清洁装置的光学制作工艺设备以及使用此光学制作工艺设备的光学制作工艺方法。光学制作工艺设备主要包括基板清洁装置、光学制作工艺机台及材料涂布装置。光学制作工艺机台具有基板座，材料涂布装置优选设置在基板座的上方，且可相对于基板座移动。基板清洁装置主要包括出气装置及气体供应装置。出气装置是设置对应于材料涂布装置的前导端，气体供应装置与出气装置连接，并提供气体至出气装置。在材料涂布装置涂布基板座上的基板或薄膜前，基板清洁装置喷出气体至基板或薄膜上，以清洁其上的灰尘或其他影响成品品质的粒子。 | ||
| 搜索关键词： | 具基板 清洁 装置 光学 制作 工艺设备 及其 工艺 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板清洁装置，供与一材料涂布装置及一光学制作工艺机台配合使用，该基板清洁装置包括：一出气装置，包括一气体出口，其中该出气装置是设置对应于该材料涂布装置的一前导端；以及一气体供应装置，适于提供气体至该出气装置。
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