[发明专利]具有电荷捕获存储单元的半导体存储器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200610051517.9 申请日: 2006-02-28
公开(公告)号: CN1855511A 公开(公告)日: 2006-11-01
发明(设计)人: J·威勒;T·米科拉杰克;C·卢威格;N·舒尔茨;K·-H·库斯特斯 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 程天正;梁永
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 具有电荷捕获存储单元的半导体存储器,其中存储晶体管的每个沟道区的电流方向横切于相关的字线,所述位线被布置在所述字线的顶侧上并以一种方式与后者电绝缘,而且设有源-漏区的导电局部互连,该局部互连被安排在所述字线之间的间隙中的部分内,并以一种方式与后者电绝缘和被连接到所述位线上,其中栅电极被布置在至少部分地形成在存储器衬底内的槽中。
搜索关键词: 具有 电荷 捕获 存储 单元 半导体 存储器 及其 制造 方法
【主权项】:
1.具有电荷捕获存储单元的存储器,包括:一个衬底;多个导电字线;多个存储单元,所述存储单元包括多个浅槽隔离、由所述浅槽隔离所限定的多个源/漏区、由字线的相应部分构成且与相邻源/漏区之间的衬底相对以形成多个沟道区的多个栅电极,所述栅电极通过捕获电介质与所述源/漏区隔离,且其中所述栅电极被布置在至少部分地形成在所述衬底内的槽中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技股份公司,未经英飞凌科技股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610051517.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top