[发明专利]具有电荷捕获存储单元的半导体存储器及其制造方法无效
申请号: | 200610051517.9 | 申请日: | 2006-02-28 |
公开(公告)号: | CN1855511A | 公开(公告)日: | 2006-11-01 |
发明(设计)人: | J·威勒;T·米科拉杰克;C·卢威格;N·舒尔茨;K·-H·库斯特斯 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技股份公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L21/8247 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 程天正;梁永 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 具有电荷捕获存储单元的半导体存储器,其中存储晶体管的每个沟道区的电流方向横切于相关的字线,所述位线被布置在所述字线的顶侧上并以一种方式与后者电绝缘,而且设有源-漏区的导电局部互连,该局部互连被安排在所述字线之间的间隙中的部分内,并以一种方式与后者电绝缘和被连接到所述位线上,其中栅电极被布置在至少部分地形成在存储器衬底内的槽中。 | ||
搜索关键词: | 具有 电荷 捕获 存储 单元 半导体 存储器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.具有电荷捕获存储单元的存储器,包括:一个衬底;多个导电字线;多个存储单元,所述存储单元包括多个浅槽隔离、由所述浅槽隔离所限定的多个源/漏区、由字线的相应部分构成且与相邻源/漏区之间的衬底相对以形成多个沟道区的多个栅电极,所述栅电极通过捕获电介质与所述源/漏区隔离,且其中所述栅电极被布置在至少部分地形成在所述衬底内的槽中。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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