[发明专利]一种合成瑞格列奈的工艺无效
申请号: | 200610052067.5 | 申请日: | 2006-06-21 |
公开(公告)号: | CN1865253A | 公开(公告)日: | 2006-11-22 |
发明(设计)人: | 杨健;许惠钢 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | C07D295/135 | 分类号: | C07D295/135 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人: | 林怀禹 |
地址: | 310027浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种合成瑞格列奈的工艺。是以4-羧基甲基-3-乙氧基苯甲酸酯为原料制得酰氯;然后在碱性条件下与s-(+)-1-(2-哌啶苯基)-3-甲基正丁胺(3)缩合得到S(+)-2-乙氧基-4-[N-{1-(2-哌啶基苯基)-3-甲基-1-丁基}胺基羰基甲基]苯甲酸酯;再经过水解得到瑞格列奈。本发明与其他的工艺相比,它具有高效,低毒,原料易得且价格便宜,操作简单,收率较高,两步反应的总收率达到了80.9%,是一条很有工业化前景的合成瑞格列奈工艺路线。 | ||
搜索关键词: | 一种 合成 瑞格列奈 工艺 | ||
【主权项】:
1、一种合成瑞格列奈的工艺,其特征在于该工艺的步骤如下:A.将化合物2加入到溶剂中,搅拌,再加入酰氯化试剂制得酰氯;B.在A步骤中加入碱,继续搅拌,然后加入化合物3反应得到化合物4;C.将化合物4加入水溶性溶剂中,再加入碱性溶液水解,反应完全后调整PH值得到瑞格列奈1;其中:化合物2为4-羧基甲基-3-乙氧基苯甲酸酯,酯中R表示任何一个易于脱保护的羧酸的保护基;化合物3为s-(+)-1-(2-哌啶苯基)-3-甲基正丁胺;化合物4为S(+)-2-乙氧基-4-[N-{1-(2-哌啶基苯基)-3-甲基-1-丁基}胺基羰基甲基]苯甲酸酯,酯中R表示任何一个易于脱保护的羧酸的保护基;R为甲基、乙基、叔丁基、苄基、对硝基苄基或对甲氧基苄基。
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