[发明专利]反应性金属酞菁衍生物及制备方法无效
申请号: | 200610052457.2 | 申请日: | 2006-07-14 |
公开(公告)号: | CN1887885A | 公开(公告)日: | 2007-01-03 |
发明(设计)人: | 陈文兴;吕慎水 | 申请(专利权)人: | 浙江理工大学 |
主分类号: | C07D487/22 | 分类号: | C07D487/22;C09B47/22 |
代理公司: | 杭州九洲专利事务所有限公司 | 代理人: | 翁霁明 |
地址: | 310018浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种反应性金属酞菁衍生物及其制备方法,该反应性金属酞菁衍生物具有式1的结构,其中:M为过渡金属离子,R1、R2、R3、R4分别为H、(式(A))五者中的任意一种,并排除R1、R2、R3、R4全部为H;R5基团的结构可以是:-NH2、-NHCOCH3、-NHSO3Na、-NHSO3H、(如式(B))等;所述的制备方法,是将四氨基金属酞菁与三聚氯氰、三聚氟氰等在有机溶剂中反应而成;它具有原材料易得,制备步骤简单,产率和纯度较高、具有较好的水溶性等优点,并且具有较高的反应活性,可以很方便地与含有-OH、-SH、-NH-和-NH2等活泼H的载体发生反应,形成牢固的共价键,从而将金属酞菁负载到载体上,以适应于催化、脱硫、传感器和光动力学治疗等不同的应用领域。 | ||
搜索关键词: | 反应 金属 衍生物 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种反应性金属酞菁衍生物,其特征在于该反应性金属酞菁衍生物具有式1所示的结构,其中:M为过渡金属离子,R1、R2、R3、R4分别为H、五者中的任意一种,并排除R1、R2、R3、R4全部为H。或 式1。
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