[发明专利]一种尼龙MXD6/纳米蒙脱土复合材料的制备方法无效
| 申请号： | 200610053171.6 | 申请日： | 2006-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN1931921A | 公开（公告）日： | 2007-03-21 |
| 发明（设计）人： | 祝佳才;应继儒;张进 | 申请（专利权）人： | 浙江阳光纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C08L77/00 | 分类号： | C08L77/00;C08K3/34;C08G69/28 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 31710*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种制取尼龙MXD6/纳米蒙脱土复合材料的水溶液法工艺过程。这种复合材料是用下列原料进行原位缩聚反应制取的：至少含有80mole％己二酸的二羧酸；至少含有80mole％苯二甲胺的胺化物；至少在一种次(亚)磷酸化合物(如次磷酸钠、亚磷酸二苯酯、亚磷酸三苯酯等)和弱酸的碱金属化合物存在下进行缩聚反应，次磷酸化合物的含量为己二酸和苯二甲胺总重量的0.05％－0.8％；至少含有重量份数为0.1－10％有机化纳米蒙脱土。反应在惰性气体保护下进行，先通过水溶液法制得纳米蒙脱土尼龙MXD6盐，再在一定压力和温度下进行原位缩聚合，合成得到尼龙MXD6/纳米蒙脱土复合材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 尼龙 mxd6 纳米 蒙脱土 复合材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种尼龙MXD6/纳米蒙脱土复合材料的制备方法，其特征在于采用原位缩聚的生产方法得到。
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