[发明专利]光刻掩模和用于生成光刻掩模的方法

摘要

用于在衬底上对抗蚀剂层进行光刻制图的具有第一区域(50、52、54、56)以及第二和第三区域(60、62、64、66、70、72、74、76)的光刻掩模，在第一区域中光刻掩模(14)具有不透明层，第二和第三区域在光刻掩模的光学厚度方面不同且在其中光刻掩模至少是半透明的。光刻掩模包括具有交替布置并且被第一区域(50)环绕的多个第二区域(62、64)和多个第三区域(72、74)的第一段(44)，用于以小于预定临界距离的距离光刻生成抗蚀剂开口(34、36)。该光刻掩模还包括具有多个第三区域(70、76)的第二段(42、46)，每个第三区域都被第二区域环绕，该第二区域被多重连接的第一区域环绕，用于以大于预定临界距离的距离光刻生成抗蚀剂开口(32、38)。

主权项

1.用于在衬底上对抗蚀剂层进行光刻制图的具有第一区域(50、52、54、56、58)以及第二和第三区域(60、62、64、66、70、72、74、76)的光刻掩模(14)，其中在所述第一区域中所述光刻掩模(14)具有不透明层，所述第二和第三区域在所述光刻掩模(14)的光学厚度方面有所区别，并且在所述第二和第三区域中所述光刻掩模(14)至少是半透明的，所述光刻掩模具有：第一段(44)，该第一段具有被交替布置的并且被第一区域(50)环绕的多个第二区域(62、64)和多个第三区域(72、74)，用于以小于预定的临界距离的距离光刻生成抗蚀剂开口(34、36)；以及第二段(42、46)，该第二段具有多个第三区域(70、76)，这些第三区域(70、76)中的每一个都被第二区域(60、66)环绕，该第二区域(60、66)被多重连接的第一区域(50)环绕，用于以大于预定的临界距离的距离光刻生成抗蚀剂开口(32、38)。