[发明专利]具有钉扎的铁磁/反铁磁多层膜材料及其制备方法无效
| 申请号： | 200610056824.6 | 申请日： | 2006-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN1845266A | 公开（公告）日： | 2006-10-11 |
| 发明（设计）人： | 倪经;蔡建旺 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | H01F10/32 | 分类号： | H01F10/32;H01F10/12;H01F10/26;H01F41/22 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高存秀 |
| 地址： | 100080北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有钉扎的铁磁/反铁磁多层膜材料及其制备方法，该材料采用真空沉积镀膜法和再退火的工艺，制备出包括在基片上依次设置缓冲层、铁磁层和一反铁磁层，或者在缓冲层设置反铁磁层再设置铁磁层和一保护层。该钉扎体系引入L10有序相反铁磁(Cr1－xMnx)0.5+δPt0.5－δ(0.3≤x≤0.6；|δ|＜0.06)作为钉扎材料。该材料相对于已有的反铁磁材料(比如FeMn、IrMn、NiMn和PtMn等)制成的铁磁/反铁磁体系，具有非常好的热稳定性，大的交换偏置场以及优越的抗腐蚀性，加之成分范围广，是另一种非常理想的反铁磁钉扎材料。其制备方法简单，适于工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 反铁磁 多层 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种具有钉扎的铁磁/反铁磁多层膜材料，包括一基片和基片上设置一缓冲层，其特征在于：还包括一铁磁层，所述的铁磁层设置在缓冲层上；和一反铁磁层，该反铁磁层设置在铁磁层上；所述的反铁磁层为(Cr1-xMnx)0.5+δPt0.5-δ，其中0.3≤x≤0.6；|δ|＜0.06。
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