[发明专利]单处理室淀积系统无效
| 申请号： | 200610056851.3 | 申请日： | 2006-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN1900351A | 公开（公告）日： | 2007-01-24 |
| 发明（设计）人： | 郭信生 | 申请（专利权）人： | 亚升技术公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种淀积系统包括处理室、在处理室中用于保持工件的工件支架、包含第一材料的第一靶、包含第二材料的第二靶、单个磁体组件以及传送机构，该单个磁体组件设置成可以扫过第一靶和第二靶，以在工件上淀积第一材料和第二材料，该传送机构可以在磁体组件与第一靶或第二靶之间引起相对移动。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 室淀积 系统 | ||
【主权项】：
1.一种淀积系统，包括：一个处理室；一个工件支架，在所述处理室内，配置成保持一个工件；一个包含第一材料的第一靶，设置在所述处理室内；一个包含第二材料的第二靶，设置在所述处理室内；单个磁体组件，设置在所述第一靶和所述第二靶的附近，配置成扫过所述第一靶和所述第二靶，以在所述工件上淀积所述第一材料和所述第二材料；以及传送机构，可操作地与所述磁体组件连接，配置成在所述磁体组件与所述第一靶或所述第二靶之间引起相对移动。
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