[发明专利]内埋元件的基板制造方法有效

专利信息
申请号: 200610057445.9 申请日: 2006-03-15
公开(公告)号: CN101038887A 公开(公告)日: 2007-09-19
发明(设计)人: 洪清富;许武州 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L23/488;H05K3/32;H05K1/18
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 梁挥;徐金国
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种内埋元件的基板制造方法。首先,提供一第一金属层以及一内埋元件,第一金属层至少具有二凸点,其对应连接该内埋元件;接着,将该内埋元件放置于一核心层之一埋孔中,并压合第一金属层以及核心层;之后,图案化第一金属层,以形成一第一线路层,且内埋元件与该第一线路层电连接。其中,核心层具有至少一层半固化态绝缘层,在压合步骤中可将其填入于埋孔内,使核心层与内埋元件紧密接合。
搜索关键词: 元件 制造 方法
【主权项】:
1.一种内埋元件的基板制造方法,其特征在于,该方法包括:提供一第一金属层以及一内埋元件,该第一金属层至少具有二凸点,与该内埋元件对应连接;将该内埋元件放置于一核心层的一埋孔中;压合第一金属层和核心层;以及图案化该第一金属层,形成一第一线路层,且该内埋元件与该第一线路层电连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610057445.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top