[发明专利]使用指令相关性查看深度来改善处理性能的方法和装置无效

专利信息
申请号: 200610059124.2 申请日: 2006-03-14
公开(公告)号: CN1834852A 公开(公告)日: 2006-09-20
发明(设计)人: 笠原荣二 申请(专利权)人: 索尼计算机娱乐公司
主分类号: G06F1/32 分类号: G06F1/32;G06F9/38
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 黄小临;王志森
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的方法和装置用于:使用X纳米的制造处理而制造处理器,所述X纳米的制造处理是比Y纳米处理更高级的处理;响应于所述高级制造处理而提高所述处理器的相关性查看电路的深度,以改善处理功率,其中,所述相关性查看电路用于确定是否输入流水线的指令的操作数依赖于在流水线中正在被执行的任何其他指令的操作数。
搜索关键词: 使用 指令 相关性 查看 深度 改善 处理 性能 方法 装置
【主权项】:
1.一种方法,包括:使用X纳米的制造处理来制造处理器,所述X纳米制造处理是比Y纳米处理更高级的处理;并且响应于改善处理功率的高级制造处理而提高所述处理器的相关性查看电路的深度,其中,所述相关性查看电路可用于确定是否输入流水线的指令的操作数依赖于正在流水线中执行的任何其他指令的操作数。
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