[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200610059227.9 | 申请日： | 2006-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN1821884A | 公开（公告）日： | 2006-08-23 |
| 发明（设计）人： | N·R·坎帕;S·N·L·唐德斯;C·A·胡根达姆;N·坦凯特;F·范德穆伦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 围绕充满液体的空间的密封元件，具有在其下表面对相对低的压力源和相对高的压力源开口的凹槽，通过该凹槽液体和/或气体从所述密封元件和所述基底之间排出。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，设置为利用投影系统将来自构图装置的图案投影至基底上，并具有设置为将浸液提供至该投影系统的末端元件和该基底之间的空间的液体供给系统；所述液体供给系统包括：密封元件，用于在其下表面和所述基底之间形成密封，从而基本上将所述液体限制在所述空间中，其中，在所述下表面中的凹槽向着用于排出液体和/或气体的第一压力源开口，所述凹槽还向着第二压力源开口，所述第一压力源的压力低于所述第二压力源，使得气体从所述第二压力源流入所述第一压力源。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610059227.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
