[发明专利]用于制造光学半导体模块的方法和模具无效

专利信息
申请号: 200610059419.X 申请日: 2006-03-03
公开(公告)号: CN1828855A 公开(公告)日: 2006-09-06
发明(设计)人: 迪特尔·穆茨;汉斯-彼得·魏布勒 申请(专利权)人: ATMEL德国有限公司
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;H01L21/60;B29C39/26;B29C39/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 曾立
地址: 德国海*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种用于制造光学半导体模块的方法,其中,将一个具有至少一个光学有源元件的半导体基体(1)放置在一个引线框架(3,4)中,其中,建立所述半导体基体(1)和所述引线框架(3,4)之间的导电连接,然后,紧接着在一个模具(11,12)中对所述引线框架(3,4)和所述半导体基体(1)浇注,其中,设置至少一个覆盖体(14,15,18,21),它位于所述模具(11,13)的内壁和所述光学有源元件之间。
搜索关键词: 用于 制造 光学 半导体 模块 方法 模具
【主权项】:
1.用于制造光学半导体模块的方法,其中,将一个具有至少一个光学有源元件的半导体基体(1)放置在一个引线框架(3,4)中,其中,建立所述半导体基体(1)和所述引线框架(3,4)之间的导电连接,然后,紧接着在一个模具(11,12)中对所述引线框架(3,4)和所述半导体基体(1)浇注,其中,设置至少一个覆盖体(14,15,18,21),它位于所述模具(11,13)的内壁和所述光学有源元件之间。
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