[发明专利]有机电致发光器件制造方法及有机电致发光器件制造装置无效
| 申请号： | 200610059674.4 | 申请日： | 2006-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN1835258A | 公开（公告）日： | 2006-09-20 |
| 发明（设计）人： | 羽根功二 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H05B33/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温大鹏 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种有机电致发光器件制造技术，其没有前处理工序中衬底被污染的问题，而且能够准确进行衬底和掩模的位置对合而形成精细的有机发光层。本发明是包括相对于衬底(10)进行前处理的前处理工序的有机电致发光器件制造方法，前述前处理工序包括在真空中加热及冷却前述衬底(10)的工序，在该冷却工序结束后，相对于该衬底(10)进行成膜用掩模(11)的位置对合，进而经由成膜用掩模(11)而在衬底(10)上形成空穴传输层，其后进行至少一种颜色的有机发光层的形成。前处理工序中的冷却，在烘焙室(23)中的加热处理之后、和前处理室(25)中的真空等离子体处理之后，在冷却室(24)中进行。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 电致发光 器件 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种有机电致发光器件制造方法，包括：前处理工序，包括在真空中加热衬底的加热工序和冷却该衬底的冷却工序；有机层形成工序，在前述冷却工序结束后，在真空中相对于前述衬底进行成膜用掩模的位置对合，进而经由前述成膜用掩模进行有机层的形成。
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