[发明专利]碳纳米管场发射电子源及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200610060018.6 申请日: 2006-03-22
公开(公告)号: CN101042977A 公开(公告)日: 2007-09-26
发明(设计)人: 魏洋;刘亮;魏巍;姜开利;范守善 申请(专利权)人: 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
主分类号: H01J37/06 分类号: H01J37/06;H01J1/30;H01J9/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种碳纳米管场发射电子源,其包括:一导电基体、一碳纳米管和一导电金属层,该导电基体具有一顶部,该碳纳米管一端与该导电基体顶部电性连接,另一端沿该导电基体顶部向外延伸,该导电金属层形成于该碳纳米管表面与该导电基体顶部表面。本发明还涉及上述碳纳米管场发射电子源的制造方法。
搜索关键词: 纳米 发射 电子 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种碳纳米管场发射电子源,其包括:一导电基体和至少一碳纳米管,该导电基体具有一顶部,该碳纳米管一端与该导电基体顶部电性连接,另一端沿该导电基体顶部方向向外延伸,其特征在于,该碳纳米管场发射电子源进一步包括一导电金属层形成于该碳纳米管表面与该导电基体顶部表面。
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