[发明专利]星型双回转磁控溅射导电玻璃镀膜生产线及生产工艺有效
| 申请号： | 200610062311.6 | 申请日： | 2006-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN101130452A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 许生;徐升东;庄炳河;曹志刚;高文波 | 申请（专利权）人： | 深圳豪威真空光电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/23 | 分类号： | C03C17/23;C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳创友专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈俊斌 |
| 地址： | 518054广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种星型双回转磁控溅射导电玻璃镀膜生产线及生产工艺，该生产线包括A面进出片室、B面进出片室、A面旋转真空室、B面旋转真空室、A面第一溅射工作室、B面第一溅射工作室、中间连接室、A面旋转回架装置、B面旋转回架装置；A面进出片室、A面第一溅射工作室分别与A面旋转真空室相衔接；B面进出片室、B面第一溅射工作室分别与B面旋转真空室相衔接；中间连接室二端分别与A面旋转真空室、B面旋转真空室相衔接。生产工艺中，通过同时进行二个方向的生产流程控制，共用主要的生产设备，使相对同样产能的现有生产线，本发明的生产线占地面积小，投入设备成本大大降低，生产维护成本也大幅度降低，经济效益与社会效益十分显著。 | ||
| 搜索关键词： | 星型双 回转 磁控溅射 导电 玻璃 镀膜 生产线 生产工艺 | ||
【主权项】：
1.星型双回转磁控溅射ITO导电玻璃镀膜生产线，其特征是：包括A面进出片室、B面进出片室、A面旋转真空室、B面旋转真空室、A面第一溅射工作室、B面第一溅射工作室、中间连接室、A面旋转回架装置、B面旋转回架装置；所述A面进出片室、A面第一溅射工作室分别与所述A面旋转真空室相衔接；所述B面进出片室、B面第一溅射工作室分别与所述B面旋转真空室相衔接；所述中间连接室二端分别与所述A面旋转真空室、B面旋转真空室相衔接。
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