[发明专利]侧链不饱和聚合物、放射线敏感性树脂组合物及液晶显示元件用间隔物有效
| 申请号： | 200610064736.0 | 申请日： | 2006-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN101131511A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 一户大吾;米仓勇;西尾寿浩;志保浩司 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1339 | 分类号： | G02F1/1339;G02F1/1333;G03F7/028;G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 孙秀武;吴娟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种放射线敏感性树脂组合物，其含有不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐(a1)、分子内含一个羟基的含羟基不饱和化合物(a2)、以及除(a1)和(a2)之外的其他不饱和化合物(a3)的共聚物与异氰酸酯化合物反应得到的聚合物。本发明还提供高感度、即使在1,200J/m2或以下的曝光量也得到完善的间隔物形状，可形成柔软性与高回复率、耐摩擦性、与透明基板的附着性、耐热性等性能均优异的液晶显示元件用间隔物的放射线敏感性树脂组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 不饱和 聚合物 放射线 敏感性 树脂 组合 液晶显示 元件 间隔 | ||
【主权项】：
1.一种聚合物，其特征在于是通过使(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐，(a2)选自下式(1)～(4)所各自表示的含羟基不饱和化合物的至少一种化合物，以及(a3)除(a1)和(a2)之外的其他不饱和化合物的共聚物与下式(5)所示的异氰酸酯化合物反应得到的：![]()
式中，R表示氢原子或甲基，a为5或以上的整数，![]()
式中，R表示氢原子或甲基，b、c各自独立地为1～12的整数，![]()
式中，R表示氢原子或者甲基，d、e各自独立地为1～12的整数，![]()
式中，R表示氢原子或甲基，f、g各自独立地为0～6的整数，W为具有下式(I)～(IV)所各自表示的脂环式结构任一种的2价基团，![]()
式中，R表示氢原子或甲基，h为1～12的整数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JSR株式会社，未经JSR株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610064736.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：制备取代联苯的方法
- 下一篇：显影液组合物及其制造方法、和抗蚀图形的形成方法
