[发明专利]多用途大容量线性离子阱及其一体化电极加工方法无效
申请号: | 200610064916.9 | 申请日: | 2006-03-17 |
公开(公告)号: | CN101038852A | 公开(公告)日: | 2007-09-19 |
发明(设计)人: | 方向 | 申请(专利权)人: | 方向 |
主分类号: | H01J49/02 | 分类号: | H01J49/02;H01J49/10;H01J49/42;H01J9/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100013北京市朝阳区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种可用于多种分析目的的大容量线性离子阱和一种易于实现高准确度高精密度加工与装配的一体化电极加工方法。该线性离子阱包括离子捕获室、RF射频信号和DC直流信号,其中,RF电极可包括多个部分,由此可将离子捕获室分成多个子区域,可实现多种质谱分析程序。该离子阱的RF电极可以采用先加工非金属基体,然后表面覆上金属膜,最后根据子电极的需要去除绝缘区域的金属膜这样的一体化加工方法。多用途大容量线性离子阱为离子阱质量分析器和质谱仪器的发展提供了一种适用性强、功能多样、易于加工装配、成本相对低廉的实施方案。 | ||
搜索关键词: | 多用途 容量 线性 离子 及其 一体化 电极 加工 方法 | ||
【主权项】:
1.一种多用途大容量线性离子阱,包括:由至少四个平行于离子阱中心轴z轴的RF电极和一对端电极所确定的离子捕获室;RF射频信号和DC直流信号;其特征在于:所述RF电极组沿z方向至少包括两个部分,每个部分至少有一个子RF电极包含一条狭缝,狭缝用于样品或离子沿径向注入或出射。
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