[发明专利]一种石墨清洗装置无效
申请号: | 200610064974.1 | 申请日: | 2006-03-20 |
公开(公告)号: | CN101041892A | 公开(公告)日: | 2007-09-26 |
发明(设计)人: | 焦春美;刘祥林 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00;C23C16/18;H01L21/205 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 100083北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种石墨清洗装置,包括:一外壳,该外壳为一中空长方体结构;一石墨基座支架位于外壳内的下部;一石墨加热器为一箱体结构,该石墨加热器位于石墨基座支架的上方;一保温材料围绕在石墨加热器的四周;一上盖位于外壳的上方;一感应圈螺旋缠绕在外壳的外围;在外壳的一侧分别安装有三路气体入口;在外壳的另一侧安装有一个尾气排放口;一控温热电偶位于外壳的下部与石墨基座支架连接。用该装置清洗石墨基座时,不占用设备机时,提高设备的使用效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 清洗 装置 | ||
【主权项】:
1、一种石墨清洗装置,其特征在于,包括:一外壳,该外壳为一中空长方体结构;一石墨基座支架,该石墨基座支架位于外壳内的下部;一石墨加热器,该石墨加热器为一箱体结构,该石墨加热器位于石墨基座支架的上方;一保温材料,该保温材料围绕在石墨加热器的四周;一上盖,该上盖位于外壳的上方;一感应圈,该感应圈螺旋缠绕在外壳的外围;在外壳的一侧分别安装有三路气体入口;在外壳的另一侧安装有一个尾气排放口;一控温热电偶,该控温热电偶位于外壳的下部与石墨基座支架连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的