[发明专利]基板载放台、基板处理装置以及基板处理方法有效

专利信息
申请号: 200610065330.4 申请日: 2006-03-17
公开(公告)号: CN1835205A 公开(公告)日: 2006-09-20
发明(设计)人: 大桥薰;速水利泰 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/3065;H01L21/00;C23F4/00;H05H1/46;H01J37/32
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种基板载放台(17),在其内侧制冷剂室(28)与外侧制冷剂室(29)之间设置有圆筒形状的空隙部(30)。与空隙部(30)连接的配管(30a)一直延伸至基板载放台(17)的下方,通过阀(71)与真空泵(72)连接。利用该真空泵(72)将空隙部(30)内减压至规定的真空状态后关闭阀(71),使空隙部(30)内处于真空状态,通过这种方法可以降低空隙部(30)的传热性,并作为隔热部件。从而,能够提高基板载放台的温度控制,从而实现晶片表面内的均匀化处理。
搜索关键词: 基板载放台 处理 装置 以及 方法
【主权项】:
1.一种基板载放台,其特征在于:是对被处理基板进行温度控制并载放所述被处理基板用的基板载放台,其中,在所述基板载放台上内设有多条相互独立的使温度调节用介质通过的流路,同时,至少在两条所述流路之间设置有隔热部。
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