[发明专利]等离子体处理装置、狭缝天线和等离子体处理方法无效

专利信息
申请号: 200610065521.0 申请日: 2006-03-20
公开(公告)号: CN1849034A 公开(公告)日: 2006-10-18
发明(设计)人: 堀口贵弘 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46;H05H1/00;C23C16/50;C23C16/44;H01L21/3065
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供利用液体的冷却介质冷却电介质的等离子体处理装置、狭缝天线以及等离子体处理方法。微波等离子体处理装置(100)由处理容器(10)、导波管(22)、狭缝天线(23)、电介质(24)、第一冷却部(60)和第二冷却部(80)构成。第一冷却部(60)通过使液体的冷却介质在设在狭缝天线(23)上的流路(61)中流动,冷却电介质(24)。此外,第二冷却部(80)通过使气体从设在导波管(22)上的气体入口流到气体出口,冷却电介质(24)。由此,通过一边冷却电介质(24),一边利用经由导波管(22)、狭缝天线(23)而透过电介质(24)的微波使处理气体等离子体化,由此基板(W)被等离子体处理。结果,在等离子体处理中可以防止电介质(24)上产生裂纹。
搜索关键词: 等离子体 处理 装置 狭缝 天线 方法
【主权项】:
1.一种等离子体处理装置,具有:传播微波的导波部;使在所述导波部中传播的微波透过的电介质;和利用透过所述电介质的微波使处理气体等离子体化,对基板进行等离子体处理的处理容器,其特征在于:具有利用液体的冷却介质冷却所述电介质的第一冷却部。
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