[发明专利]监控对衬底晶片的污染的方法和设备有效
| 申请号： | 200610065541.8 | 申请日： | 2006-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN1834638A | 公开（公告）日： | 2006-09-20 |
| 发明（设计）人： | 阿诺·法夫尔;雷米·托洛特;格扎维埃·梅泰;让·皮埃尔·德比奥勒 | 申请（专利权）人： | 阿尔卡特公司 |
| 主分类号： | G01N27/62 | 分类号： | G01N27/62;G01N27/64;G01N1/22;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 朱海波 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于例如在FOUP(前开口式通用盒)或SMIF(标准机械接口)类型的传送密闭盒中直接测量污染的设备。将该传送密闭盒置于适配器上，该适配器在该传送密闭盒与外部气体分析器之间形成直接连通。该气体分析器对采样气体进行离子化，并通过测量由这种离子化得到的离子的参数来执行分析。这种方法可实时地测量非常低级别的气态污染。 | ||
| 搜索关键词： | 监控 衬底 晶片 污染 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于在半导体或微机电系统的制造工艺中监控对衬底晶片或其他部件的污染的设备，所述制造工艺包括在传送密闭盒中传输和/或存储所述衬底晶片或其他部件，所述设备包括气体分析器，其包括用于对气体进行离子化的装置和用于通过测量离子的参数来识别离子化的气体的装置，其中所述用于对气体进行离子化的装置适合于在大气压力下对气体进行离子化，并且所述设备还包括接口装置，其用于在所述气体分析器与传送密闭盒的内部空气之间形成直接连通，以执行对包含在所述传送密闭盒的内部空气中的气体的实时分析。
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