[发明专利]光刻胶再生方法及其系统有效
| 申请号： | 200610065829.5 | 申请日： | 2006-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN101042529A | 公开（公告）日： | 2007-09-26 |
| 发明（设计）人： | 赖庆智;冯桂森;黄纬苓;杨炎胜;朱志弘;吴橞淂;邓纯祯;刘展睿;陈铭恩;陈志慧 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 任默闻 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种光刻胶再生及其系统，利用低温浓缩抽离回收光刻胶溶液中的清洗溶剂，使其固含量达到原生光刻胶固含量以上，再经过滤装置除去回收光刻胶中的粒状物后，并添加光刻胶稀释剂以调整回收光刻胶的固含量及黏度使膜厚预测值接近原生光刻胶，以获得可再利用的再生光刻胶。经本发明的方法浓缩过后的再生光刻胶挥发性降低，有助于改善其涂布于基板时四角偏厚的现象。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 再生 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶再生方法，其特征在于，包含下列步骤：(a)以低温浓缩抽离回收光刻胶溶液中的溶剂，使其固含量达到高于原生光刻胶后即停止；(b)过滤去除所述低温浓缩后的回收光刻胶中的粒状物；(c)添加溶剂以调整回收光刻胶的固含量及黏度；(d)监测所述调整后的回收光刻胶的固含量及黏度；及(e)调整所述回收光刻胶固含量及黏度，使其于固定转速下达成目标膜厚。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院，未经财团法人工业技术研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610065829.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：信号电平的调节设备
- 下一篇：一种蒸汽清扫机专用垃圾桶
