[发明专利]光学元件的制造方法无效
申请号: | 200610065986.6 | 申请日: | 2006-03-29 |
公开(公告)号: | CN1841157A | 公开(公告)日: | 2006-10-04 |
发明(设计)人: | 林慎二;川岛朋也;守谷德久 | 申请(专利权)人: | 大日本印刷株式会社 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1337;G02F1/133 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 段承恩;陈海红 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种可以简单而且便宜地制造光学元件的方法,所述光学元件是在半透射反射用的液晶显示装置中使用的、具有进行了图形化的1/4波长的相位差。该方法包含以下工序:将含有聚合性液晶的涂布液,涂布于基体材料上从而形成涂膜的工序;将上述聚合性液晶进行取向从而成为液晶相状态的工序;通过在上述涂膜中通过光掩模照射电离射线,使液晶相状态的上述聚合性液晶进行聚合,从而只在照射部分上使上述聚合性液晶硬化来形成上述液晶层的工序;以及将形成有上述涂膜的基板加热,使未硬化状态的上述聚合性液晶成为各向同性相的状态,通过使该状态下未硬化的上述聚合性液晶进行聚合,形成各向同性层的工序。 | ||
搜索关键词: | 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制造光学元件的方法,所说的光学元件是使光入射时产生相位差的液晶层部分和即使光入射也不产生相位差的各向同性层部分,进行任意形状图形化而成的,其特征在于,包含以下工序:将含有聚合性液晶的涂布液,涂布于基体材料上形成涂膜的工序;将上述聚合性液晶进行取向成为液晶相状态的工序;通过向上述涂膜上通过光掩模照射电离射线,使液晶相状态的上述聚合性液晶进行聚合,从而只在照射部分上使上述聚合性液晶硬化来形成上述液晶层的工序;以及将形成了上述涂膜的基板加热,使未硬化状态的上述聚合性液晶成为各向同性相的状态,通过使该状态下未硬化的上述聚合性液晶聚合,形成各向同性层的工序。
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