[发明专利]曝光工作台以及曝光装置有效

专利信息
申请号: 200610066090.X 申请日: 2006-03-28
公开(公告)号: CN1841202A 公开(公告)日: 2006-10-04
发明(设计)人: 伊势胜;水口信一郎 申请(专利权)人: 株式会社ORC制作所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H05K3/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 陈坚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种曝光工作台,和能流畅地进行一系列作业且可提高基板品质的曝光装置,曝光工作台即使是较薄的基板也能够适当地吸附保持,且即使在基板周缘呈波浪状的状态下也能够进行保持,在基板的载置面因使用而磨损的情况下,也能以简单的结构进行更换等,保养作业性优良。该曝光工作台(7)包括:基板的载置板(8);工作台主体(9);设置在载置板上的多个吸附孔;连通通道,其形成于工作台主体并与吸附孔连通,吸附孔具有第一吸附孔(8a)和第二吸附孔(8b),第二吸附孔形成为小于第一吸附孔的小孔(8b1),并形成为将多个小孔相邻地集合起来的吸附孔群,吸附孔群沿着基板的周缘的纵边和横边的至少一方,按规定间隔配置在预先设定的位置上。
搜索关键词: 曝光 工作台 以及 装置
【主权项】:
1.一种曝光工作台,其在对矩形基板进行曝光时使用,其特征在于,包括:载置板,其用于载置上述基板;工作台主体,其支承该载置板;多个吸附孔,它们贯穿形成于上述载置板的与上述基板对置的位置,用于吸附保持该基板;连通通道,其以与上述吸附孔连通的方式形成于上述工作台主体,上述吸附孔具有第一吸附孔和第二吸附孔,上述第一吸附孔以预先设定的大小隔开规定间隔进行配置,上述第二吸附孔形成为将多个小孔相邻地集合起来的小孔群,而且上述小孔形成为小于上述第一吸附孔,并且,上述小孔群沿着上述基板周缘处的纵边和横边的至少一方,按规定间隔配置在预先设定的位置上,上述连通通道具有:与上述第一吸附孔连通的第一连通通道,和与上述第二吸附孔连通的第二连通通道。
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