[发明专利]抗蚀剂组合物及其使用方法有效
| 申请号： | 200610066565.5 | 申请日： | 2006-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN1877447A | 公开（公告）日： | 2006-12-13 |
| 发明（设计）人： | 詹姆斯·J·布奇格纳诺;黄武松;戴维·P·克劳斯;利迪杰·塞卡里克;拉曼·G·维斯瓦纳思安 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 陈文平 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 含硅的非化学放大型照射敏感抗蚀剂组合物尤其适用于光刻方面的应用，特别是电子束光刻。具体而言，照射敏感抗蚀剂组合物中含有一种聚合物，其具有至少一个含硅部分和至少一个照射敏感部分，照射敏感部分经照射曝光可裂解形成可溶于碱水溶液的部分，该抗蚀剂组合物可用于使亚－50nm特征图案化且极少或无模糊。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 组合 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂组合物，其包含一种聚合物，所述聚合物具有至少一个含硅部分和至少一个照射敏感部分，该照射敏感部分经照射可裂解形成可溶于碱水溶液的部分。
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