[发明专利]对称变形场的单光束电子散斑干涉二维检测方法无效

专利信息
申请号: 200610068978.7 申请日: 2006-09-29
公开(公告)号: CN1932438A 公开(公告)日: 2007-03-21
发明(设计)人: 孙平 申请(专利权)人: 山东师范大学
主分类号: G01B11/16 分类号: G01B11/16
代理公司: 济南圣达专利商标事务所 代理人: 王书刚
地址: 250014山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明提供了一种对称变形场的单光束电子散斑干涉二维检测方法。该方法的步骤为(1)通过单光束照明的电子散斑干涉系统对具有对称变形的物体进行测量,采用相移技术或者载波调制和傅里叶方法得到物体变形的相位场;(2)对变形相位图进行镜像翻转、反相运算后得到第二幅相位图,对两幅相位图进行解包络、图像复位、叠加以及代数运算后分离出面内位移场和离面位移场,获得物体的二维变形场的分量值。本发明仅对一幅相位图进行相应运算就可实现二维位移场分离,从而得到物体的二维位移场的分量值。该方法为近似计算方法,但是系统简单,为二维测量提供了一种快速、稳定的检测方法。
搜索关键词: 对称 变形 光束 电子 干涉 二维 检测 方法
【主权项】:
1、一种对称变形场的单光束电子散斑干涉二维检测方法,其特征是该方法的步骤为:(1)通过单光束照明的电子散斑干涉系统对具有对称变形的物体进行测量,采用相移技术或者载波调制和傅里叶方法得到物体变形的相位场;(2)对变形相位图进行镜像翻转、反相运算后得到第二幅相位图,对两幅相位图进行解包络、图像复位、叠加以及代数运算后分离出面内位移场和离面位移场,获得物体的二维变形场的分量值。
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