[发明专利]掩模板玻璃衬底制造方法、掩模板制造方法、掩模制造方法、掩模板玻璃衬底、掩模板和掩模无效
| 申请号： | 200610071565.4 | 申请日： | 2006-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN1841189A | 公开（公告）日： | 2006-10-04 |
| 发明（设计）人： | 栗川明典;笠原比佐志;大久保靖 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/08 | 分类号： | G03F1/08;G03F7/09 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 马浩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种制造掩模板玻璃衬底的方法，包括：标记形成步骤，该步骤将激光照射在掩模板玻璃衬底的表面上的对转印没有影响的区域中的镜状表面上，从而形成用作标记的凹坑，该标记用于标识或管理掩模板玻璃衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 玻璃 衬底 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造掩模板玻璃衬底的方法，包括：标记形成步骤，该步骤将激光照射在所述掩模板玻璃衬底的表面上的对转印没有影响的区域中的镜状表面上，从而形成用作标记的凹坑，该标记用于标识或管理所述掩模板玻璃衬底。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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