[发明专利]疏液构件、喷嘴板、使用其的液体喷射头及液体喷射设备有效
申请号: | 200610072100.0 | 申请日: | 2006-04-10 |
公开(公告)号: | CN1847001A | 公开(公告)日: | 2006-10-18 |
发明(设计)人: | 西岛辰巳 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B41J2/14 | 分类号: | B41J2/14;B41J2/16 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 柳春雷 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供具有高疏液性和疏液耐久性的诸如喷嘴板的疏液构件、使用该疏液构件的液体喷射头以及液体喷射设备。疏液构件包括:下层膜,设置在基板的表面上并包含硅;和疏液膜,设置在所述下层膜上并由具有氟碳基团的硅烷偶联剂制成。在该疏液构件中,当通过飞行时间二次离子质谱仪的测量来检测基于氟碳的碎片离子和硅离子时,在基于氟碳的碎片离子中所检测到的最高离子对硅离子的强度比大于或等于10。 | ||
搜索关键词: | 构件 喷嘴 使用 液体 喷射 设备 | ||
【主权项】:
1.一种疏液构件,包括:下层膜,所述下层膜设置在基板的表面上并包含硅;和疏液膜,所述疏液膜设置在所述下层膜上,并由具有氟碳基团的硅烷偶联剂制成,其中,当通过飞行时间二次离子质谱仪的测量来检测基于氟碳的碎片离子和硅离子时,在所述基于氟碳的碎片离子中所检测到的最高的离子对所述硅离子的强度比大于或者等于10。
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