[发明专利]光刻胶稀释剂的制造方法无效
| 申请号： | 200610072413.6 | 申请日： | 2006-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN1828430A | 公开（公告）日： | 2006-09-06 |
| 发明（设计）人： | 周立苍;陈一诚 | 申请（专利权）人： | 广辉电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄健 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光刻胶稀释剂的制造方法，包括：提供光刻胶材料与第一光刻胶稀释剂，且该第一光刻胶稀释剂适于稀释此光刻胶材料；所述第一光刻胶稀释剂包含分别具有第一韩森参数的多种第一溶剂，且各第一溶剂分别具有第一韩森参数，而光刻胶材料具有第二韩森参数；以第一韩森参数定义出第一区域；依第一溶剂的第一韩森参数选出多种第二溶剂，其中各第二溶剂分别具有第三韩森参数，并对应于第一溶剂其中之一；混合第二溶剂形成第二光刻胶稀释剂，且第二光刻胶稀释剂具有第四韩森参数，其位于第一区域内。因此，按照本发明方法制造的光刻胶稀释剂的成本能够降低。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 稀释剂 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶稀释剂的制造方法，包括：提供一光刻胶材料与第一光刻胶稀释剂，其中所述第一光刻胶稀释剂适于稀释所述光刻胶材料，所述第一光刻胶稀释剂包含多种第一溶剂，且各第一溶剂分别具有第一韩森参数，而所述光刻胶材料具有第二韩森参数；以所述第一韩森参数定义出第一区域；依据所述第一溶剂的第一韩森参数，选择出多种对应的第二溶剂，其中各第二溶剂分别具有第三韩森参数，并对应于所述第一溶剂其中之一；以及混合所述第二溶剂形成第二光刻胶稀释剂，且该第二光刻胶稀释剂具有第四韩森参数，其位于第一区域内。
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