[发明专利]用于形成低折射率膜的组合物及带固化膜的基材无效
| 申请号： | 200610073199.6 | 申请日： | 2006-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN1847305A | 公开（公告）日： | 2006-10-18 |
| 发明（设计）人： | 熊泽光章;平井俊晴;细井弘之;竹中直巳 | 申请（专利权）人： | 触媒化成工业株式会社;共荣社化学株式会社 |
| 主分类号： | C08L33/14 | 分类号： | C08L33/14;C08K3/36;G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供作为防反射膜有用的耐擦伤性、耐化学试剂性、透明性、防反射性能等优良的用于形成低折射率膜的组合物。该用于形成低折射率膜的组合物由含有全氟基团的(甲基)丙烯酸酯树脂、和经通式RnSiX (4－n)表示的硅烷偶合剂处理的中空二氧化硅类微粒组成。式中，R：碳原子数为1～4的烷氧基、甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、全氟(甲基)丙烯酰基，X：碳原子数为1～4的烷氧基、硅烷醇基、卤原子或氢原子。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 折射率 组合 固化 基材 | ||
【主权项】：
1.一种用于形成低折射率膜的组合物，其特征为，该组合物由含有全氟基团的(甲基)丙烯酸酯树脂、和经下述式(1)表示的硅烷偶合剂处理后的中空二氧化硅类微粒组成，RnSiX(4-n) ……(I)其中，R为碳原子数为1～4的烷氧基、甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、全氟(甲基)丙烯酰基，X为碳原子数为1～4的烷氧基、硅烷醇基、卤原子或氢原子。
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