[发明专利]化学放大型抗蚀材料及使用了它的图案形成方法无效

专利信息
申请号: 200610073601.0 申请日: 2006-04-13
公开(公告)号: CN1881084A 公开(公告)日: 2006-12-20
发明(设计)人: 远藤政孝;笹子胜 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039;G03F7/004;G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开了一种化学放大型抗蚀材料及使用了该化学放大型抗蚀材料的图案形成方法。目的在于:能够在浸液光刻中防止化学放大型抗蚀膜的溶解性的降低,形成具有良好形状的微细图案。在衬底101上形成抗蚀膜102,该抗蚀膜102由含聚合物的化学放大型抗蚀材料构成,该聚合物具有半缩醛或半缩酮。接着,在将液体104提供到已形成的抗蚀膜102上的状态下,对抗蚀膜102选择性地照射曝光光105来进行图案曝光。然后,能够通过将已图案曝光的抗蚀膜102进行显像,来由抗蚀膜102获得具有良好的图案形状的抗蚀图案102a。
搜索关键词: 化学 大型 材料 使用 图案 形成 方法
【主权项】:
1、一种化学放大型抗蚀材料,为使用在浸液光刻中的化学放大型抗蚀材料,其特征在于:含具有半缩醛或者半缩酮的第1聚合物。
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