[发明专利]抗蚀材料及使用了该抗蚀材料的图案形成方法无效
| 申请号： | 200610074073.0 | 申请日： | 2006-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN1866129A | 公开（公告）日： | 2006-11-22 |
| 发明（设计）人： | 远藤政孝;笹子胜 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种抗蚀材料及使用了该抗蚀材料的图案形成方法。目的在于：能够提高抗蚀图案与被处理膜的附着性，防止图案的形状不良。在衬底101上形成由含有为杂环酮的4－戊烷内酰胺的抗蚀材料构成的抗蚀膜102，接着，通过掩膜104对抗蚀膜102照射曝光光103来进行图案曝光。接着，通过将已被图案曝光的抗蚀膜102显像来形成抗蚀图案102a。 | ||
| 搜索关键词： | 材料 使用 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1、一种抗蚀材料，其特征在于：含有杂环酮或上述杂环酮的异构体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社，未经松下电器产业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610074073.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
