[发明专利]衍射光学元件以及衍射光学元件的制造方法有效
| 申请号： | 200610074637.0 | 申请日： | 2006-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN1877372A | 公开（公告）日： | 2006-12-13 |
| 发明（设计）人： | 前野仁典 | 申请（专利权）人： | 冲电气工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 浦柏明;刘宗杰 |
| 地址： | 日本东*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可不追加刻蚀步骤、还不受光刻的分辨力的限制地来进行相位校正的衍射光学元件的制造方法。其包含：(a)第1步骤，以台阶形状的台阶高差的2倍即深度2L对成为7级台阶形状的第7级的区域和成为3级台阶形状的第3级的区域进行刻蚀；(b)第2步骤，以台阶形状的台阶高差即深度L对成为7级台阶形状的第2、4、6级的区域和成为3级台阶形状的第1级的区域进行刻蚀；(c)第3步骤，以深度2L对成为7级台阶形状的第5、6、7级的区域和成为3级台阶形状的第2、3级的区域进行刻蚀；(d)第4步骤，以深度2L对成为7级台阶形状的第3、4、5、6、7级的区域和成为3级台阶形状的第2、3级的区域进行刻蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 衍射 光学 元件 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种衍射光学元件，在1个衬底上形成具有n级台阶形状的元件以及具有m级台阶形状的元件，其中n＞m，该元件其特征在于，所述m级台阶形状的第1级形成在与所述n级台阶形状的第2级相同的级上。
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