[发明专利]径向倾斜的抛光垫有效
| 申请号： | 200610074776.3 | 申请日： | 2006-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN1846940A | 公开（公告）日： | 2006-10-18 |
| 发明（设计）人： | G·P·马尔多尼 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D17/00 | 分类号： | B24D17/00;B24B29/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 朱黎明 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 可用来抛光磁性基片、光学基片和半导体基片的抛光垫。该抛光垫包括抛光层，该抛光层具有一旋转中心，以及与该旋转中心同心并具有一定宽度的环形抛光轨迹。该环形抛光轨迹的宽度不含非径向凹槽。该抛光垫具有位于所述环形抛光轨迹宽度内抛光层中的大量径向微沟槽，大部分径向微沟槽主要为径向取向，其平均宽度小于50微米。 | ||
| 搜索关键词： | 径向 倾斜 抛光 | ||
【主权项】：
1.一种可用来抛光磁性基片、光学基片和半导体基片中至少一种的抛光垫，该抛光垫包括：a)抛光层，该抛光层具有一旋转中心，以及与该旋转中心同心并具有一定宽度的环形抛光轨迹，该环形抛光轨迹的宽度不含非径向凹槽，以减少凹槽图案转移，非径向凹槽是取向为与相对于旋转中心的圆周的夹角在30度以内的凹槽；b)位于所述环形抛光轨迹宽度内的抛光层中的大量径向微沟槽，大部分径向微沟槽主要为径向取向，其平均宽度小于50微米。
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