[发明专利]非易失性存储器件及其制造方法有效
申请号: | 200610075345.9 | 申请日: | 2006-04-10 |
公开(公告)号: | CN1964050A | 公开(公告)日: | 2007-05-16 |
发明(设计)人: | 金东彻;柳寅儆;李明宰;徐顺爱;白寅圭;安承彦;朴炳昊;车映官;朴祥珍 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/105 | 分类号: | H01L27/105;H01L27/115;H01L21/8239;H01L21/8247 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 李晓舒;魏晓刚 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供一种在存储节点中具有改进的结构从而具有稳定的开关特性的非易失性存储器件及其制造方法。该非易失性存储器件包括开关器件和与该开关器件耦接的存储节点。该存储节点包括第一电极、第二电极、数据存储层、以及至少一个接触层。该数据存储层设置在该第一电极与该第二电极之间且包括过渡金属氧化物或者铝氧化物。所述至少一个接触层设置在该数据存储层之上或之下,且包括导电金属氧化物从而改善该数据存储层与该第一电极之间以及该数据存储层与该第二电极之间的界面特性。 | ||
搜索关键词: | 非易失性存储器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种非易失性存储器件,包括:开关器件;以及存储节点,其与该开关器件耦接,该存储节点包括:第一电极;第二电极;数据存储层,其设置在该第一电极与该第二电极之间且包括过渡金属氧化物或铝氧化物;以及至少一个接触层,其设置在该数据存储层之上或之下且由导电金属氧化物形成从而改善该数据存储层与该第一电极之间以及该数据存储层与该第二电极之间的界面特性。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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