[发明专利]增强溅射靶的制造方法无效
| 申请号： | 200610075466.3 | 申请日： | 2006-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN1900352A | 公开（公告）日： | 2007-01-24 |
| 发明（设计）人： | 阿卜杜勒瓦哈卜·齐亚尼;贝恩德·孔克尔 | 申请（专利权）人： | 黑罗伊斯公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C30/00;C22C1/03 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 林潮;樊卫民 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种制造溅射靶的方法，包括如下步骤：将多种原材料制备成为与合金系相应的组合物，所述多种原材料包括纯元素或母合金，并在真空或氩(Ar)的分压下加热所述多种原材料至完全液态，以形成与合金系相应的熔融合金，凝固该熔融合金以形成锭，把锭再加热至完全液态以形成扩散熔融合金。所述方法还包括如下步骤：快速凝固该扩散熔融合金成为均质预合金粉末材料，向该均质预合金粉末材料中掺和纯单质粉末，固结该均质预合金粉末材料成为全致密均质材料，热轧该全致密均质材料。另外，所述方法包括如下步骤：冷轧该全致密均质材料，并机械加工该全致密均质材料以形成溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 增强 溅射 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造钴(Co)基溅射靶的方法，该钴(Co)基溅射靶用公式表示为Co-(5-40at.％)Fe-(5-20at.％)B，或Co-(5-25at.％)Cr-(5-25at.％)Pt-(5-20at-％)B-(0.2-7.5at.％)X1和非必须的(0.5-7.5at.％)X2，X1代表铜(Cu)、银(Ag)或金(Au)，且X2代表钛(Ti)、钒(V)、钇(Y)、锆(Zr)、铌(Nb)、钼(Mo)、钌(Ru)、铑(Rh)、镧(La)、铪(Hf)、钽(Ta)、钨(W)或铱(Ir)，所述方法包括如下步骤：将多种原材料制备成为与Co-(5-40at.％)Fe-(5-20at.％)B，或Co-(5-25at.％)Cr-(5-25at.％)Pt-(5-20at.％)B-(0.2-7.5at.％)X1和非必须的(0.5-7.5at.％)X2合金系相应的组合物，所述多种原材料包括纯元素或母合金；在真空或氩(Ar)的分压下加热所述多种原材料至完全液态，以形成与Co-(5-40at.％)Fe-(5-20at.％)B，或Co-(5-25at.％)Cr-(5-25at.％)Pt-(5-20at.％)B-(0.2-7.5at.％)X1和非必须的(0.5-7.5at.％)X2合金系相应的熔融合金；凝固所述的熔融合金以形成锭；把所述的锭再加热至完全液态以形成扩散熔融合金；快速凝固所述的扩散熔融合金成为均质预合金粉末材料；固结所述的均质预合金粉末材料成为全致密均质材料；冷轧所述的全致密均质材料；以及机械加工所述的全致密均质材料以形成溅射靶。
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